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半導(dǎo)體設(shè)備中的微氧控制技術(shù)及藥典微量氧分析儀建議|埃登威自動(dòng)化系統(tǒng)設(shè)備(上海)有限公司

半導(dǎo)體設(shè)備中的微氧控制技術(shù)及藥典微量氧分析儀建議

在半導(dǎo)體制造過(guò)程中,微氧控制是一項(xiàng)至關(guān)重要的技術(shù),尤其在硅片的傳輸和升降舟進(jìn)出反應(yīng)室的過(guò)程中。這些環(huán)節(jié)中,硅片會(huì)與設(shè)備內(nèi)部的氣氛接觸,而氣氛中的氧氣分子可能導(dǎo)致非必要的氧化層形成,從而降低硅片品質(zhì),甚至導(dǎo)致報(bào)廢。

為了解決這一問題,我們通常會(huì)使用氧氣(O2)分析儀和氣體質(zhì)量流量控制器來(lái)實(shí)現(xiàn)閉環(huán)控制,以降低設(shè)備內(nèi)部氣氛中的含氧量。這種控制方式能有效減少不必要的氧化,確保硅片的質(zhì)量。半導(dǎo)體設(shè)備中的微氧控制技術(shù)及藥典微量氧分析儀建議

同時(shí),為了避免微氧控制過(guò)程中氣氛壓力超出**范圍,我們采用了基于PLC的閉環(huán)控制模型。這一模型能夠?qū)崟r(shí)監(jiān)測(cè)和控制氣氛壓力,確保在微氧控制良好的情況下,壓力系統(tǒng)也能可靠運(yùn)行。

微氧控制是半導(dǎo)體立式爐、氧化爐、擴(kuò)散爐、退火/推進(jìn)設(shè)備的重要性能指標(biāo)。對(duì)于這些設(shè)備來(lái)說(shuō),**控制氣氛中的氧氣濃度至關(guān)重要。而氧氣分析儀則是實(shí)現(xiàn)這一目標(biāo)的關(guān)鍵工具。半導(dǎo)體設(shè)備中的微氧控制技術(shù)及藥典微量氧分析儀建議

氧氣分析儀在半導(dǎo)體設(shè)備中的應(yīng)用具有許多優(yōu)勢(shì)。首先,它采用螺紋或法蘭安裝方式,適用于各種安裝環(huán)境。其次,它的量程廣泛,可以從1ppm到25%,能夠滿足各種濃度范圍的需求。此外,該儀器響應(yīng)速度快,精度高,長(zhǎng)期穩(wěn)定性好,使用壽命長(zhǎng),特別適合用于半導(dǎo)體氧化/退火爐的工況。

目前,這款氧氣分析儀已經(jīng)在多家國(guó)內(nèi)主要半導(dǎo)體設(shè)備廠商中批量使用,并獲得了良好的反饋。這充分證明了它是一款可靠、有效的產(chǎn)品,能夠幫助廠商提高生產(chǎn)效率和產(chǎn)品質(zhì)量。半導(dǎo)體設(shè)備中的微氧控制技術(shù)及藥典微量氧分析儀建議

總結(jié)來(lái)說(shuō),微氧控制是半導(dǎo)體制造過(guò)程中的關(guān)鍵環(huán)節(jié),而氧氣分析儀則是實(shí)現(xiàn)這一目標(biāo)的重要工具。通過(guò)采用適當(dāng)?shù)难鯕夥治鰞x和氣體質(zhì)量流量控制器,以及基于PLC的閉環(huán)控制模型,我們可以有效降低設(shè)備內(nèi)部氣氛中的含氧量,確保硅片的質(zhì)量和可靠性。這不僅有助于提高生產(chǎn)效率,還能為半導(dǎo)體制造行業(yè)的可持續(xù)發(fā)展做出貢獻(xiàn)。半導(dǎo)體設(shè)備中的微氧控制技術(shù)及藥典微量氧分析儀建議

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