惰性氣體氧氣氫氣純化器
9NP系列高性能氣體凈化器采用常溫催化技術(shù),通過化學反應(yīng)和物理吸附相結(jié)合,在常溫下將工藝氣體中的H2O、O2、CO、CO2、H2、NMHC等雜質(zhì)去除至1ppb以下。此外,316L不銹鋼內(nèi)膽內(nèi)置過濾精度為0.003微米的顆粒過濾器,內(nèi)表面經(jīng)過電化學拋光處理。主要用于氦氣、氖氣、氬氣、氪氣、氙氣的凈化,可以大大去除氣體中含有的氧氣、氮氣、氫氣、二氧化碳、碳氧化物、碳氫化合物、水等雜質(zhì)。為ICP-MS、ICP-MS、原子吸收光譜、氣相色譜、液相色譜、GC-MS等提供高純度惰性氣體。以確保良好的惰性氣氛。
常溫下流量范圍1-2000slm的出口氣體雜質(zhì)含量小于1ppb,內(nèi)置0.003微米316L SS過濾器的316L SS EP凈化罐100%氦檢漏,可配置二閥、三閥、四閥等閥門組件,可原廠認證回收CE。使用成本低。
惰性氣體氧氣氫氣純化器純化指標
氣體類型*
可純化氣體*
去除雜質(zhì)
純化指標
惰性氣體-I
N2, Ar, He, Xe, Ne, Kr
H2O, O2, CO, CO2, H2, NMHC
<1ppb
氧氣-O
O2, CDA
H2O, CO2, NMHC
氫氣-H
H2
H2與惰性氣體混合氣
H2O, O2, CO, CO2, NMHC
*表格中僅列出典型的氣體類型和常見的可純化氣體,更多氣體純化應(yīng)用請與埃登威聯(lián)系。
惰性氣體氧氣氫氣純化器型號說明
產(chǎn)品型號
常規(guī)流量
(slm)
*大壓力
(MPa)
*大壓差
顆粒過濾器
(μm)
進/出氣口接頭
進出氣口距離
L
純化器外徑
D
9NP001
1
1.0
0.1
0.003
1/4” MVCR
3.3”
(84mm)
1.5”
(38.1mm)
9NP003
3
4.5”
(114mm)
9NP005
5
5”
(127mm)
9NP030
30
6.3”
(160mm)
2”
(50.8mm)
9NP050
50
7.9”
(202mm)
3”
(76.2mm)
9NP300
300
17.3”
(440mm)
4”
(101.6mm)
9NP300-8L
500
1/2” MVCR
20.0”
(508mm)
9NP999
1000
1/2” FVCR
28.2”
(716mm)
6”
(152.4mm)
9NP1999S
2000
3/4” MVCR
50.8”
(1290mm)
表格中僅列出標準流量、指標和配置,更多特殊要求請與埃登威聯(lián)系。
惰性氣體氧氣氫氣純化器產(chǎn)品應(yīng)用
集成電路制造 半導體分立器件制造 硅片、襯底、外延片生產(chǎn) LED、激光器制造 高效太陽能電池生產(chǎn) 光纖預制棒生產(chǎn) 眾多半導體工藝設(shè)備配套 超高純氣體、混合氣體和標準氣體生產(chǎn) 吹掃氣體、載氣及零點氣體純化 大學和研究所等科研機構(gòu)產(chǎn)品研發(fā)
氫氣凈化裝置的工作原理:采用非蒸散性鋯鋁合金16吸氣劑作為凈化劑。吸氣劑主要由Zr5AL4、Zr5AL3、Zr3AL2、Zr2AL等金屬間化合物組成。它具有高活性和低擴散活化能。氣體吸附在表面時,在一定溫度下會很容易擴散到體內(nèi),具有吸雜率高、吸雜量大的特點。活化后,它能在*佳吸氣溫度范圍內(nèi)有效吸收O2、N2、CO2、CO、H2、CH4和水。
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